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工作原理及流程:催化净化是典型的气固相催化反应,其实质是活性氧参与的深度氧化作用。在催化净化过程中,催化剂的作用是降低活化能,同时催化剂表面具有吸附作用,使反应物分子富集于表面提高了反应速率,加快了反应的进行。借助催化剂可使有机废气在较低的起燃温度条件下,发生无焰燃烧,并氧化分解为CO2和H2O,同时放出大量热能,从而达到去除废气中的有害物的方法。 吸附法关键适用较低浓度的煤层气气体空气污染物的净化,浓度较高的有机化学煤层气汽体在吸附净化前必须减少浓度值。吸附技术是经典、常见的有机废气处理技术,也是工业化生产中的流行技术之一。吸附法的核心技术是吸附剂、吸附机设备和加工技术、再制造材料和后处理技术。活性炭具有较大的比表面积和微孔结构,广泛应用于有机气的吸附和回收。现阶段,活性炭吸附有机废气的科学研究关键集中化在吸附平衡的预测分析、活性碳原材料的改性及其有机化合物的理化性质对活性炭吸附特性的危害。
吸附脱附催化燃烧设备有文献表明,催化燃烧装置催化焚烧时的“燃气/空气比值”范围一般在4%~11%之间;在必定的焚烧条件之下,燃/空比为6%时,天然气就能完成较好的催化焚烧作用,焚烧体系就可以得到热效率,一起又能取得较好的排放作用。 吸附脱附催化燃烧设备 焚烧器温度调理可以通过文本显示器的键盘输入,改动变频器的输出频率,调理恰当的风量。当风量增大,焚烧温度超越设定值,则PLc操控变频器降低输出频率,减少出风量来安稳焚烧器的温度。若变频器输出频率低于设定值(风机出风量频率,设为5 Hz),而出风量仍高于设定值时,PLc开端计时,若在必定时刻内,降低到设定值,PLc抛弃计时,持续变频调速运转;若在必定时刻内温度仍高于设定,PLc将持续调理,直至到达设定值。由PLc经PID运算后操控变频器的频率输出;如温度不行,则频率上升,延时坚持必定时刻。反之亦然。 化燃烧装置可以说是一种较为常见的通过催化反应(无明火)处理有机污染物的方法,具有适用范围广,结构简单,净化速率高,节能、无二次污染等优点,催化燃烧废气处理,为了避免催化剂床层的堵塞和催化剂中毒,废气在进入床层之前需要进行预处理,以除去废气中的粉尘、液滴及催化剂的毒物。希望大家在选购时选购一款比较适合自己的废气处理设备。
沸石转轮加催化燃烧装置 吸附脱附催化燃烧设计原理*、用材独特,性能稳定,结构简便,可靠,节能省力,无二次污染。设备占地面积小,重量轻。吸附床采用抽屉式结构,装填方便,便于更换, 自动控制系统的信号检测器设置于出气口处,对出气口的废气浓度进行自动检测,并将浓度数据传输给PLC控制器,PLC控制器根据传输数据发出控制指令,控制进气口上的进气阀门和催化燃烧进气阀门的自动开启、闭合,通过对活性炭吸附层的实时脱附实现活性炭吸附层的连续净化。为保证生产的连续运行,设有两套吸附脱附装置交替使用。 针对催化燃烧废气特点,首*行分类收集,先用设备对工艺产生的烟气进行处理,在多功能塔内对废气进行喷淋吸收,废气除味剂、吸收液、化工废气除臭剂与其进行充分反应,对VOCs气体进行一定的分解处理,在末端尾气处理器上,用有机废气催化剂进行光解催化氧化反应,对化工臭气进行催化裂解处理,对苯类尾气进行冷凝回收,整个除臭装置工艺设计合理,废气治理设施运行记录标明,净化效率一直保持在99%以上。对环境的污染治理有很大的帮助!
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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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